2025“材料科学与智能制造研讨会”在长沙成功举行，索相科技 深能级瞬态谱仪DLTS LT-8000多维缺陷表征亮相

2025年8月22日至24日，**2025“材料科学与智能制造研讨会”**在湖南长沙圆满举办。索相科技（上海）有限公司受邀参会，围绕半导体新材料与智能制造领域的关键缺陷表征问题，系统展示了自主研发的LT-8000深能级瞬态谱仪（DLTS）及其多技术协同测试解决方案。

本次研讨会聚焦材料科学与智能制造交叉领域，汇聚了来自高校、科研院所及行业的专家学者，围绕新材料、先进制造工艺及表征技术的发展趋势进行了深入交流。

聚焦缺陷表征技术，展示多维研究思路

会议期间，索相科技系统介绍了DLTS（深能级瞬态谱）、DLCP（驱动电平电容谱）与TAS（热导纳谱）等关键测试手段，阐述了多维缺陷特性表征方法在半导体新材料器件研究中的应用价值。通过对缺陷能级、空间分布及热激活动力学行为的综合分析，展示了多技术协同在器件性能优化与可靠性研究中的独特优势。

LT-8000：科研与工程应用的一体化平台

作为国产自主研发的深能级缺陷分析平台，LT-8000在系统集成度、测试灵活性及应用扩展性方面具备显著优势，可广泛应用于钙钛矿、第三代及超宽禁带半导体材料与器件的研究。市场部在展会期间还进行了“半导体器件缺陷分析表征技术简介”专题演讲，全面展示了LT-8000的先进特性与应用价值。

演讲中强调，LT-8000在传统DLTS功能基础上通过集成DLCP与TAS技术，实现了对半导体器件缺陷的多维度表征。观众了解到，LT-8000不仅可精确测量深能级缺陷的能级位置、浓度和捕获截面，还能从载流子动力学、空间分布及温度依赖等多角度对缺陷进行全面解析，实现单一仪器覆盖多种分析需求。这一多维表征能力帮助科研人员和工程师快速识别和量化材料及器件中的关键缺陷，为新型半导体材料（如钙钛矿、GaN、氧化镓及二维材料）器件的优化设计和可靠性提升提供了强有力的数据支撑。

演讲现场反响热烈，众多专家学者对LT-8000在深能级缺陷分析中的精准性、多维度和高效性给予高度认可，充分体现了其在半导体材料及器件研发领域的不可替代性。